반지
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세라믹 반지
플라즈마 저항성이 우수하고 변형이 적어 안정적인 에칭 공정을 위한 고순도-세라믹입니다.. . 당사는 에칭 링, 포커싱 링, 엣지 링 등과 같은 세라믹 링에 대한 다양한 유형의 맞춤형 가공을 제공합니다. 각각은 에칭, 포토리소그래피, 이온 주입을 포함한 칩 제조의 여러 공정에서 특정한 역할을 합니다. Etching Ring은 균일하고 정밀한 식각을
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절연체 링
절연성이 높은-세라믹 소재는 높은 전압과 온도를 견딥니다.. . 세라믹 절연 링은 반도체 공정 챔버에서 중요한 절연 부품 역할을 합니다. 이 링은 고전력 RF 및 고온-환경에서 안정적인 전기 절연을 제공합니다. 우수한 유전 특성과 견고한 구조 설계를 통해 전류 누출 및 아크 방전을 효과적으로 방지하는 동시에 다른 챔버 부품에 안정적인 기계적 지지를
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초점 링
내열성 및 내부식성, 유전 손실이 낮아 정밀한 플라즈마 포커싱이 가능합니다.. . 세라믹 포커스 링은 정밀한 기하학적 구조와 안정적인 유전 특성을 통해 웨이퍼 표면 전체에 걸쳐 플라즈마 분포를 균일하게 제어하도록 설계된 반도체 에칭 챔버의 필수 구성 요소입니다. 당사의 링은 고순도-알루미나 또는 이트리아로 만들어져 우수한 플라즈마 저항성과 열 안정성을
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펌핑 링
혁신적인 다공성 구조 설계로 공정 챔버의 정확한 공기 흐름 관리가 가능합니다.. . 반도체 장비의 핵심 구성 요소인 세라믹 펌핑 링은 고유한 환형 다공성 구조를 활용하여 웨이퍼 표면 전체에 공정 가스를 균일하게 분배하고 배출합니다. 이러한 정밀한 공기 흐름 제어는 국소적인 가스 불감대를 효과적으로 제거하여 박막 증착 및 식각 공정을 위한 최적의 반응
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실리콘 링
까다로운 응용 분야에 적합한 강도와 화학적 안정성을 갖춘 고순도-실리콘입니다.. . 단결정 실리콘 링은 완벽한 결정 구조를 지닌 초순수 재료로 만들어집니다. 열팽창 계수가 낮기 때문에 고온 환경에서 치수 안정성을 유지하는 동시에 반도체 공정과의 호환성이 좋고 오염을 일으키지 않습니다. 고급-칩 제조 및 정밀 전자 장치에 적합합니다.. . 구성: 실리콘.
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석영 반지
고순도-석영으로 제작되어 우수한 내열성, 화학적 안정성 및 광 투과 특성을 제공합니다.. . 석영 반지는{0}}순도가 높은 석영으로 정밀하게 제작되었으며, 열팽창이 낮고 열충격에 대한 저항력이 뛰어납니다. 고유한 광학적 특성과 화학적 불활성은 고온 및 부식성 환경에서 안정적인 성능을 보장하는 동시에 우수한 광 투과율을 유지하므로 고온-뷰포트 및 반응
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금속 반지
고강도-금속은 우수한 저항력을 제공합니다. 정밀 가공은 까다로운 응용 분야에서 안정적인 성능을 보장합니다.. . 우리는 알루미늄 합금, 스테인리스강, 티타늄 합금과 같은 재료를 사용하여 다양한 크기의 금속 링을 맞춤 제작합니다. 이 링은 높은 강도와 우수한 인성을 갖춘 우수한 기계적 특성을 나타내므로 무거운 하중을 견디고 충격을 견딜 수 있습니다.
중국에서 가장 전문적인 반지 제조업체 및 공급업체 중 하나로서 맞춤 서비스 및 OEM 서비스도 지원합니다. 우리 공장에서 경쟁력 있는 가격으로 고품질의 반지를 구입하시기 바랍니다. 자세한 내용은 저희 웹사이트를 방문해 주셔서 감사합니다.
